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FPAG芯片的优点:
由逻辑单元、RAM、乘法器等硬件资源组成,通过将这些硬件资源合理组织,可实现乘法器、寄存器地址发生器等硬件电路。
芯片清洗在半导体工业中,关于清洗是非常重要的一步,从沙砾到芯片,“点石成芯”会主要经历硅片制造、晶圆制造、芯片封装和芯片测试几大流程,清洗则贯穿了芯片制造的全产业链,也是重复次数最多的工序。
所描述的工序包括三类:
硅片制造过程:清洗抛光后的硅片,保证表面平整度和性能,提高后续工艺的良品率。
晶圆制造过程:在光刻、刻蚀、沉积、离子注入、去胶等关键工序前后清洗,减小缺陷率。
芯片封装过程:根据封装工艺进行TSV清洗、UBM/RDL清洗、键合清洗等。
威固特VGT-1609FP光学超声波清洗机清洗芯片后可以满足以下要求:
1、不会残留干燥斑点和污痕;
2、不会有泛白、泛蓝等的化学变质,不会有暗伤等的物理变质。
清洗设备基础性原理:
清洗过程中工件通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和系统自身不停地作上下运动,增加了液体的摩擦,从而使工件表面的污垢能够迅速脱落,实现其高清洁度的目的。
威固特VGT-1609FP光学超声波清洗机大概配置:
设备共有16个功能槽,配置有环保液处理系统、循环过滤系统、自动恒温系统、抛动系统、超声波清洗系统、抽风装置、IPA漂洗系统、IPA烘干系统等。设备采用环保型水溶剂洗涤、纯水漂洗、IPA烘干(防爆)等成熟工艺,为环保型清洗机。
清洗流程:
上料→蒸馏回收系统→1环保液→2环保液→3环保液→4环保液→5洗剂清洗→6洗剂清洗→7市水漂洗→8洗剂清洗→9洗剂清洗→10纯水漂洗→11纯水漂洗→12纯水漂洗→13IPA漂洗漂洗→14IPA漂洗→15IPA漂洗→16IPA烘干→下料。
超声环保溶剂槽结构:
1. 第三槽液满后向前溢流,##由##槽溢流口流至蒸馏回收槽。蒸馏回收后的溶剂补至第三槽;
2. 各槽底部皆设排液阀;##槽与第二槽底部有球阀连通;
3. 槽体及管路:各清洗缸、槽内注入3/4深的清水,一小时后检查各缸体及液路管道与阀门不应出现渗漏现象。
超声水剂清洗槽:
1. 每槽设四面溢流口,溢水槽宽35 mm,各槽皆为独立循环槽, 由循环泵将洗剂由储液箱抽出经过滤后再运回清洗槽,即子母槽循环;
2. 设置独立循环过滤系统;
3. 各槽底部设排液阀且互相串联连至总排管;
4. 槽内设温度感应器,温控范围:RT-100℃;
5. 槽外设置抛动。
超声IPA蒸汽干燥槽:
蒸汽浴洗的加热方式采用高温油(导热油或采用蒸汽)外包间接加热,由于高温油加热温度高,且对IPA加热密度均匀,因此可以获得均匀、足够地蒸汽密度,获得良好的蒸浴效果和干燥效果。因是外包间接加热,安全性高;
为减少挥发,降低使用成本,防止异味的溢出,又可获得良好的冷却干燥效果。因此,在上部设足够冷却区间,并分为两层冷凝管冷却,由冷水机提供冷却源(需方自备)。采用“大肚婆”的形式;
IPA由于易溶于水,一定时间后浓度会降低,为保证蒸浴和干燥效果,需要定时更换IPA溶液。更换时可以通过球阀控制,排放到废液储存箱;
高精度表面清洗除前面需要有合理的清洗工艺和配置外,更需要良好的脱水效果。工件表面如果有任何垢点或积水点,##都将影响清洗效果。IPA有较高的沸点,又能较好的溶于水,经过前面IPA的有效脱水和该槽的蒸汽浴洗,工件表面已仅存IPA,经过高温后有效地散失,可以实现表面高清洁度和干燥之目的。
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