外延片指的是在衬底上生长出的半导体薄膜,薄膜主要由P型、量子阱、N型三个部分构成。

外延片需要清洗吗：

外延片在测量阻值之前需要进行清洗，常用的清洗工艺步骤包括：清洗、甩干，然后测量。

外延片属于半导体行业，半导体材料在制备过程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好坏直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率。

VGT-1509FH超声波清洗机：

外延片清洗用到的清洗机配置得有溢流槽与干燥槽。威固特VGT-1509FH超声波清洗机共有15个功能槽，配置有循环过滤系统、浸泡系统、自动恒温系统、溢流系统、抛动系统、超声波清洗系统、慢拉脱水系统、热风烘干系统等。其中清洗部分与慢拉热风干燥部份分别独立电器控制，设备采用环保型有机溶剂洗涤、水溶剂清洗、纯水漂洗、慢拉脱水热风烘干，为环保型清洗机。

超声波清洗是基于空化作用，即在清洗液中无数气泡快速形成并迅速内爆。气泡是在液体中施加高频（超声频率）、高强度的声波而产生的。因此，任何超声清洗系统都必须具备三个基本元件：盛放清洗液的槽、将电能转化为机械能的换能器以及产生高频电信号的超声波发生器。

清洗设备的能力为3-8分钟（可调）清洗一篮。

VGT-1509FH超声波清洗机配置：

超声水剂清洗槽：

1、每槽设四面溢流口，溢水槽宽35mm，各槽均为独立循环槽，由循环泵将洗剂由储液箱抽出经过滤后再运回清洗槽，即子目槽循环。

2、设置独立循环过滤系统。

3、配置第四代超声波发生器，从根本上保证超声波到有效转换率，保证超声波效果并保证超声波发生器质量到稳定性。

4、超声波发生器内设单片机，内附特有到定时系统，可根据生产需要任意调整清洗时间并形成一对一的设置，定时更具灵活性，保证清洗到一致性。

5、储液箱的设置是由隔板分成两腔，分油后的清洁溶液经循环泵重新抽入清洗槽，实现自我循环，提高溶液到利用率，而分离后到油排放到总排管。

超声回用纯水漂洗槽：

1、设置独立槽。

2、槽底部设排液阀。

3、槽外设置抛动。

4、设有加热系统。

慢拉脱水槽：

1、槽体设齿状溢流结构，纯水由纯水预热箱进入。槽外贴保温棉厚10mm。

2、槽体设“OMRON”数显温控系统，检测槽内工作温度，温控范围：常温-120℃。

3、槽体上部设抽风小孔，将溢出水蒸汽抽走，防止水气再次附着于提出到产品上。

4、在烘干槽顶部加设FFU系统，有效减少环境对洗净效果到影响。（工件加温后，对灰尘的附着力增强，FFU形成负压可有效减少环境对洗净效果到影响，从而根本上提高产品合格率）。