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VGT-4000L/H-2RE
二、设备用途
本纯水系统产水能力为4T/H，主要用于光学玻璃、半导体、精密零件的清洗。
三、主要技术指标
RO 反渗透≤3-5μS/cm；
EDI 产水电阻率≥15-16MΩ·cm；
抛光混床产水电阻率≥17-18MΩ·cm；
用水点的供水压力为0.2-0.4MPa
四、纯水设备的组成及描述
本系统主要由以下部分组成：
1）、预处理单元：原水箱、原水泵、石英砂过滤器、活性碳过滤器、保安过滤器等组成，用于除去原水中的悬浮物及胶体及吸附原水中的有机物、部分色素和有害物质，降低化学耗氧量COD。
2）、反渗透单元：高压泵、反渗透装置、中间水箱、PH 值调节、纯水箱及反渗透膜清洗系统等组成。本单元脱盐率可达到98%以上，并能将水中的细菌，胶体及大分子量的有机物大部分电解质去除。
3）、EDI 单元：纯水泵、TOC 脱除器、精密过滤器、EDI 连续性电除盐、EDI 电源等组成。用于进一步去除水中杂质、残留盐份及水中的金属离子。
4）、抛光混床单元：4吨抛核子级树脂。
5）、供水单元：紫外线杀菌、精密过滤器组成，将纯水输送到使用点。
6）、电控及仪表单元：主要由电器控制柜（EDI 电源）、仪表仪器显示盘、在线水质检测显示器、PLC逻辑控制及触摸屏操作盘等组成。完成本系统的自动化控制、参数设置、信息储存。
五、纯水系统说明
本系统采用 PLC（可编程控制器）全自动控制。设备配置测量仪表，能直观的显示各级的压力和流量，触摸屏控制面板能够直观显示两级反渗透出水的电导率、EDI 出水的电阻率。采用三菱PLC 控制设备运行情况，有过载、超压、缺水等故障保护和报警；设备总进水、总产水、总排水、原水电导率、一级、二级反渗透电导率及EDI 出水电阻率数值等能在设备主控界面上实时显示并存储。